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產(chǎn)品列表
  • 桌面型鋁合金腔體單靶磁... 桌面型鋁合金腔體單靶磁控濺射鍍膜儀是一種緊湊型鍍膜設備,采用磁控濺射技術(shù)在基片表面沉積薄膜
  • 桌面型雙靶磁控濺射鍍膜... 本設備為雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備
  • 桌面型雙靶磁控濺射鍍膜... 本設備為雙靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備...
  • 矩形腔室磁控濺射鍍膜儀 矩形腔室磁控濺射鍍膜儀是一種利用磁控濺射技術(shù)進行薄膜沉積的高精度設備
  • 離子源雙靶磁控濺射鍍膜... 離子源雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的實驗室專用鍍膜儀,設備配有兩臺直流電源,兩臺射頻電源,可用于制備單層...
  • 桌面型單靶直流磁控濺射... 單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備
  • 四探針薄膜厚度測試儀 四探針測試儀用于半導體、薄膜、導電涂層等材料的電學性能測試。四探針薄膜厚度測試儀核心作用是消除接觸電阻和引線電阻的影響,...
  • 旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀 旋轉(zhuǎn)粉末磁控濺射鍍膜儀是基于磁控濺射技術(shù)的**表面處理設備,通過動態(tài)旋轉(zhuǎn)基片或靶材的設計,結(jié)合粉末靶材的濺射特性,實現(xiàn)復...
  • 臥式高真空三靶磁控濺射... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等
  • 分體式高真空雙靶磁控濺... 雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛...
  • 桌面型磁控濺射鍍膜儀上... 磁控濺射鍍膜儀是一種先進的物**相沉積設備,廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術(shù),...
  • 雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛...
  • 桌面型磁控濺射鍍膜儀上... 磁控濺射鍍膜儀是一種先進的物**相沉積設備,廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術(shù),...
  • 下置四靶磁控濺射鍍膜儀 四靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜
  • 桌面型磁控濺射鍍膜儀下... 磁控濺射鍍膜儀是一種先進的物**相沉積設備,廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術(shù)和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術(shù),...
  • 高真空三靶磁控濺射鍍膜... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛...
  • 粉末磁控濺射鍍膜儀 粉末磁控濺射鍍膜儀是一種用于在基材表面沉積薄膜的設備,利用磁控濺射技術(shù)將粉末狀的靶材轉(zhuǎn)化為薄膜覆蓋在基材上
  • 高真空4英寸三靶磁控濺... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等
  • D型腔體單靶直流磁控濺... 直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜等
  • 分體式高真空三靶磁控濺... 三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛...
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